반도체 / 디스플레이 분야

	반도체
	반도체 및 디스플레이 산업은 제품이 점점 정밀해지고 미세해지고 있습니다. 그래서 세정 공정이 늘어나고 기존 기술을 대체 할 새로운 세정기술이 요구 되고 있습니다. 또한 환경규제가 강화되고 있어 친환경 세정의 요구가 늘어나고 있습니다. 미세파티클 및 Dust 그리고 고착성 이물을 제거하는데 CO2 및 레이저 세정 기술을 적용 할 수 있습니다. 예를 들어 파티클을 제거하는 기존 에어나이프는 수마이크로의 아주 미세한 파티클은 제거가 어렵습니다. CO2 세정 장치는 아주 탁월한 제거 성능을 발휘합니다. 또한 레이저 세정 장치는 고착성 이물을 제거하기 위해 사용하던 습식 세정 및 수작업을 대체 할 수 있습니다. 주요 장점은 PM시간 시간 단축, 친환경 세정 방식, 간편한 작업 및 자동화가 가능합니다.

디스플레이
디스플레이 산업은 미세 파티클로 인한 수율 하락이 큰 이슈 중 하나 입니다. CO2 세정 기술은 기존 에어나이프를 대체하여 수마이크로의 아주 미세한 파티클 및 약한 고착성 이물을 제거하는데 탁월한 세정 성능을 발휘 하여 수율 향상에 큰 도움을 줄 수 있습니다 - PANEL 표면 클리닝 - CCD - VCM 주요 장점은 친환경 세정 방식, 기존 라인에 간편하게 자동화가 가능합니다.